第(2/3)页

    当资本企业联盟决定实行芯片垄断的那一刻起，就已经堵死了所有生路，除非你能自己搞出来。

    罗离第一反应就是查阅系统。

    打开兑换列表，在一长串密密麻麻的兑换商品种，罗离找到了芯片制造相关的科技。

    排除“虚空系列”、“反物质”、“负相粒子光能”这种一听就买不起的东西，罗离直接将列表拉到最下来。

    然后，他就看到了自己收藏夹中躺了两个多月的3nmeuv光刻机——

    以及后面长达10厘米的“0”……

    罗离：“……”

    3nmeuv光刻机，太特么贵了！

    贵到价格只能用“厘米”来形容。

    就尼玛离谱！

    罗离果断放弃了，这东西绝对不是现阶段可以买得起的！

    然后他将目光锁定到5nm级别……这次是8厘米。

    淦，放弃放弃！

    然后是7nm……

    14nm……

    ……

    全部看完，罗离彻底无奈了。

    以他目前的系统积分，居然只能买得起130nm级别的光刻机！还特么是duv光源！！

    duv光刻机和euv光刻机能比？

    寒碜谁呢？

    duv光刻机大多采用的是波长为193nm级别的氟化氩准分子激光，或者波长为248nm的氟化氪准分子激光，单次曝光的极限制程在128nm到90nm之间，多次曝光虽然可以将精度提升至最高28nm，但却是以牺牲良品率为代价！

    几乎每重复一次曝光，损坏的几率就增加一倍……靠duv光刻机想要造出28nm制程芯片，至少需要曝光5次以上！

    先不说你连续曝光五次最终能成功几个，就算成功了，28nm也远远解决不了钉子现在的危机。

    更别提暴增的材料成本了。

    光刻工艺的核心资源是一种叫做光刻胶的化学合成剂，这东西在国内也无法制造。

    在层层垄断下，光刻胶的进口量就那么多，其他厂商会允许你这么浪费？
    第(2/3)页